武汉工业气体大家有没有了解，通过往期小编的介绍，想必大家多少都有一些了解吧，今天武汉工业气体厂家武汉舒星氧气有限公司的小编分享给大家高纯气体的重要标准度。
一、高纯气体的重要标度。
通常，高纯气体系指气体中含较少杂质气氛(纯度)，微量水份(干燥度)污染物粒子的娄量保持在最低限度，其粒度也应是最小的(洁净度)。因此，对于高纯气体，纯度、干燥度、洁净是三项重要的标度。
特别是近10年来，随着更复杂、更密集的大规模和超大规模集成电路的生产，对高纯气体洁净度的要求，其重要程度已不亚于对纯度和干燥度有严格要求的用气工艺，无一不对其中的粒子提出限制。
二、控制粒子污染的重要性
对于控制粒子污染的重要性，在集成电路生产、实验部门已经有所认识，同时，实践已向人们表明，气体的粒子可造成微日子产品的短路或断路，改变半导体材料的电性能，也可以破坏其晶格结构，影响印刷板的复制等等。这些破坏性因素中的任何一个，无可导致集成电路失效的严重后果。通常，粒子的粒径小到1微米的十分之几，便可造成断路，而更小的凿子，便函可使线路工作降级。所以，防止粒子污染，在微电子技术中是十分严格的。迄今，在纯净气体应用技术中，对于大流量高纯气体输送系统，美国已有输送含0。1µm以上粒子，每立方英尺气体中不超过10个的能力;它还为几个系统输送含有0.02µm以上粒子的气体，其粒子数每立方英尺不超过10个。
三、洁净度控制的标准或规定
由于高纯度体的使用地点、性质、关况(如温度、压力等)都不完全一致，所以，如何确定高纯气体的“三度”(纯度、干燥度、洁净度)，还没有一个严格而明确的概念。
对于纯度和干燥度的控制，我国CBJ73—84《洁净厂房设计规范》中指出，“高纯气体系指纯度大于或等于99.9995%，含水量小于5ppm气体。
日本把微电子生产中所采用的气体，按其不同的品位，具体分为下列几个不同的档次。
超高纯气体
气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。
高纯气体
气体中杂质总含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以内.
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